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等離子去膠機(jī)適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備,可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理,設(shè)計緊湊占地面積小,設(shè)備穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。等離子去膠機(jī)使用的影響因素:(1)調(diào)整合適的頻率:頻率越高,氧氣越容易電離形成等離子體。如果頻率太高,使得電子的振幅比其平均自由程短,則電子與氣體分子碰撞的概率會......
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等離子清洗機(jī)利用這些活性成分的特性對樣品表面進(jìn)行處理,以達(dá)到清洗等目的,廣泛應(yīng)用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理,可以提高材料表面的潤濕能力,使多種材料可以進(jìn)行涂層、電鍍等操作,增強(qiáng)附著力、結(jié)合力,同時去除有機(jī)污染物、油或油脂。等離子清洗機(jī)的工作原理:利用工作氣體在電磁場的......
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聚對二甲苯涂層系統(tǒng)是通過化學(xué)氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結(jié)構(gòu)的聚合物薄膜的統(tǒng)稱,它有極其優(yōu)良的電性能、耐熱性、耐候性和化學(xué)穩(wěn)定性。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備,可制成極薄的薄膜,主要用作薄膜和涂層,用于電子元器件的電絕緣介質(zhì)、保護(hù)性涂料和包封材料等。聚對二甲苯涂層系統(tǒng)的特點(diǎn):1、合規(guī):即也適用于復(fù)雜的基材輪廓,......
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賽默飛X射線衍射儀是廣泛使用的X射線衍射分析儀器。主要用于樣品相的定性或定量分析,晶體結(jié)構(gòu)分析,材料結(jié)構(gòu)宏觀應(yīng)力測量,晶粒尺寸測量,結(jié)晶度測量等。根據(jù)實(shí)際需要,各種特殊功能附件以及相應(yīng)的控制和計算機(jī)軟件構(gòu)成具有特殊功能的衍射儀。賽默飛X射線衍射儀的基本原理:根據(jù)布拉格衍射原理,通過晶體對X射線的衍射,獲得樣品內(nèi)部原子的......