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在半導(dǎo)體制造中，plasma清洗機是一種非常重要的設(shè)備，用于清潔和處理半導(dǎo)體器件表面，以確保器件的質(zhì)量和性能。利用高能離子和活性氣體來去除表面的有機和無機雜質(zhì)，同時可以改變表面的化學(xué)性質(zhì)，從而提高器件的性能。在半導(dǎo)體制造中，plasma清洗機主要用于以下幾個方面：1、清洗表面：在半導(dǎo)體器件的制造過程中，表面往往會被污染或覆蓋有氧化物等雜質(zhì)。這些雜質(zhì)會影響器件......
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等離子體對材料產(chǎn)生作用的機理處于等離子狀態(tài)的物質(zhì)具有高而不穩(wěn)定的能量水平。如果等離子接觸到固體材料（如塑料和金屬），其能量將作用于固體表面，并導(dǎo)致物體表面的重要性質(zhì)（如表面能量）發(fā)生變化。在各項制造應(yīng)用領(lǐng)域，可以利用這一原理對材料的表面特性進(jìn)行有選擇地更改。使用等離子能量對物體表面進(jìn)行處理，能夠準(zhǔn)確且有針對性地提升材料......
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等離子體是部分離化的中性氣體，在等離子體中自由電子與中性分子，原子進(jìn)行碰撞，通過碰撞電離，進(jìn)一步得到更多的電子和離子?；陔娮拥哪芰?，可以獲得更豐富的離子，激發(fā)態(tài)高能中性粒子等，同時由于電子吸附在中性氣體表面還可獲得負(fù)離子?？涛g方法在塑料印刷和粘合時作為預(yù)處理手段是十分重要的，等離子蝕刻機用于刻蝕塑料表面，通過氧氣可以......
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等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，使石英管內(nèi)形成強的電磁場，使氧氣電離，形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱。活化氧（活潑的原子態(tài)氧）可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體，被機械泵抽走，這樣......
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等離子去膠機是適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備，主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于有機及無機殘留物的去除，去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用，清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線框架，提高黏附性等，它的設(shè)計緊湊，占地面積小，設(shè)備運行穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。它的工藝簡單、效率高，處理后無酸氣廢水等殘留......
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